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CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 - cover

LIBRO INGLESE

CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155

Name: CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
Price: 47.90 EUR
Availability: InStock
ISBN: 1107408326

Alexander A. Demkov (Curatore)

Bill Taylor (Curatore)

Cambridge University Press, 2014

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Descrizione

To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.

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Dettagli

Curatore:

Alexander A. Demkov, Bill Taylor

Editore:

Cambridge University Press

Collana:

MRS Proceedings

Anno:

2014

Rilegatura:

Paperback / softback

Pagine:

194 p.

Testo in English

Dimensioni:

229 x 152 mm

Peso:

270 gr.

EAN:

9781107408326

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