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Atomic Layer Deposition for Semiconductors - cover

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Atomic Layer Deposition for Semiconductors

Cheol Seong Hwang (Curatore)

Springer-Verlag New York Inc., 2016

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Offering thorough coverage of atomic layer deposition (ALD), this book moves from basic chemistry of ALD and modeling of processes to examine ALD in memory, logic devices and machines. Reviews history, operating principles and ALD processes for each device.

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Dettagli

Curatore:

Cheol Seong Hwang

Editore:

Springer-Verlag New York Inc.

Anno:

2016

Rilegatura:

Paperback / softback

Pagine:

263 p.

Testo in English

Dimensioni:

235 x 155 mm

Peso:

4219 gr.

EAN:

9781489979438

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